原标题：彻底摆脱ASML光刻机?华为拉出一“芯片猛兽”
一场芯片禁令让我们意识到了，在芯片领域之中，我们对于国外究竟有多么依赖，同时也让大多数人了解到了芯片的制造难度。
芯片困境
芯片这种东西研发周期长，试错成本高，并不是投入就会有收获，在短时间内很难收获到回报。再来，集成电路运用范围覆盖非常的广，几乎覆盖了军工，民用所有的电子设备。
想要在短时间内开发出高级别应用的芯片，更是难上加难。退1万步来讲，即便是我们解决了在芯片制造上面所遇见的困难，而在芯片制造过程之中，其关键设备也是一个难题。
不说别的，光是在光刻机的问题上，我们就难以去进行突破，我国在光刻机领域之中刚刚起步，目前中国最先进的光刻机是上海微电子的90 纳米光刻机，并且光刻机需要巨大的资金投入。不是所有的企业都能够承担起这样巨额的投入，即便是能够解决这两个方面的难题，在技术上我们也很难解决。
光刻机是高科技产物的组合，每一个部位都需要最好的技术。每一台光刻机上有几十万甚至几百万个零部件，而每一个零部件都需要经过上千次甚至是上万次的调试，才能够保证在芯片制造过程之中不会出现任何的意外。
光刻机的重要性
而在全球产业链之中，荷兰的ASML公司在光刻机领域扮演着非常重要的角色。几乎垄断了全球95%以上的市场。可以这样说，所有的芯片代工厂都离不开荷兰的as mal，尤其是其旗下的EUV光刻机，更是几乎100%的垄断了全球市场。
作为7纳米以及以下制程芯片的关键设备，因为光刻机的价格高，并且产能非常少，即便是有钱也够呛能够买到，再加上其制造难度非常高，所以即便是asmal一年的产能也仅仅只有30~40台。
光刻机又称为是掩模对准曝光机，将集成电路刻画在半导体晶圆厂的关键设备，而这个过程决定了芯片的先进程度。没有光刻机集成电路的刻画工作就没有办法完成，芯片就不能够成行。而先进芯片的生产要求只有高端的光刻机才能够完成，这也就意味着光刻机的高端与否，决将会直接决定芯片的先进与否。这也就是为什么荷兰阿斯麦公司能够在全球领域之内如此嚣张的原因。
其实早前中芯国际曾经从阿思麦订购过一台EUV光刻机，但是受到瓦森纳协议的影响，直到现在这台光刻机依旧没有能够到货，所以，即便是我们能够攻克在芯片制造上的难题，也绕不开光刻机。
华为拉出一只猛兽
不过中国有句老话叫做，世事无绝对。如今华为拉出了一只猛兽，而这只猛兽，就是华为所公开的新的专利，或许会摆脱彻底摆脱ASML的EUV光刻机，。最近华为对外官宣了一项新的专利，关于光学芯片及其制造过程，采用了全新的生产方式，在不需要euv光刻机的支持下也能够制造出芯片。
我们都知道传统的硅基芯片已经无限接近摩尔定律的发展极限，就那么接下来，我们自然就会去寻找一种新的芯片去替代这种传统的硅基芯片，而光学芯片就成为了有可能替代传统规级芯片的新型产品。虽然目前还在实验室之中，但是能够研发出来意义就已经非常重大。
作为国内最强的芯片巨头，华为自然是不会放过这次在芯片领域崛起的机会。据说华为此次公开的这项技术覆盖范围非常的广，除了包含设计原理之外，还指出了晶圆制造和切割的方法，在过程之中避免了对于光刻机的依赖，推出了一定的解决方案。这对于国产芯片的未来发展来讲，的确是一件利好的消息。
而这一切都要感谢任正非的有远见，如果不是因为任正非有远见，那么华为很有可能不会取得这样的技术突破。早前任正非就曾经表示，传统硅基芯片领域想要超越国外是很困难的，我们在这一方面是存在弱势的，所以对于我们而言，开辟出新的道路，才能够去有反超的机会。
如今看来，任正非果然是非常有远见的。在任正非的带领系之下，华为已经走向了世界，虽然此次被美国打压受到了一定的影响，但相信在接下来的发展之中，在任老的带领下，华为一定能够带给我们更多的惊喜，国产芯片未来可期，华为公司中华有为。
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