韩国半导体专利优先审查期将从逾 1 年缩短至 2.5 个月

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  韩国知识产权局(KIPO)今(24)日宣布,将根据韩国政府对半导体产业的支持,对相关专利的优先审查等关键专利的获得提供全方位支持。

  

韩国半导体专利优先审查期将从逾 1 年缩短至 2.5 个月-第1张图片-大千世界


  据《韩联社》报道,KIPO 将把半导体关键专利优先审查期从 12.7 个月大大缩短至 2.5 个月左右,相关法规预计将于今年 10 月颁布实施。

  KIPO 计划根据半导体专利申请中的发明人信息分析各领域的关键人才和发明人平均年龄的变化,并提出未来需要人才培训的领域。同时,利用半导体等核心技术领域的离退休研究人员进行专利审查,防止因海外转移造成技术外泄,提供精准审查服务。

  据悉,在半导体领域,韩国国内 2019 年申请量为 39590 件,2020 年为 39913 件,2021 年 41636 件,年均增长 3.2%。


标签: 半导体 韩国

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