突破冯·诺依曼构架瓶颈 中国研制出最小尺寸相变存储单元

大千世界 92 0

  据中国科学院上海微系统与信息技术研究所消息,该所研究员宋志棠、王浩敏组成联合研究团队,首次采用GNR边缘接触制备出目前世界上最小尺寸的相变存储单元器件。

  7月18日,相关研究成果以《通过石墨烯纳米带边界接触实现相变存储器编程功耗最小化》(Minimizing the programming power of phase change memory by using graphene nanoribbon edge-contact)为题,在线发表在《先进科学》上。

  据了解,当今数据生产呈现爆炸式增长,传统的冯·诺依曼计算架构已成为未来继续提升计算系统性能的主要技术障碍。

  而相变随机存取存储器(PCRAM)可以结合存储和计算功能,是突破冯·诺依曼计算构架瓶颈的理想路径选择。

  PCRAM具有非易失性、编程速度快和循环寿命长等优点,但其中相变材料与加热电极之间的接触面积较大,造成相变存储器操作功耗较高,如何进一步降低功耗成为相变存储器未来发展面临的最大挑战之一。

  研究团队采用石墨烯边界作为刀片电极来接触相变材料,可实现万次以上的循环寿命。

  当GNR宽度降低至3nm,其横截面积为1nm2,RESET电流降低为0.9 μA,写入能耗低至~53.7 fJ。该功耗比目前最先进制程制备的单元器件低近两个数量级,几乎是由碳纳米管裂缝(CNT-gap)保持的原最小功耗世界纪录的一半。

  中国科学院称,这是目前国际上首次采用GNR边缘接触实现极限尺寸的高性能相变存储单元,器件尺寸接近相变存储技术的缩放极限。该新型相变存储单元的成功研制代表了PCRAM在低功耗下执行逻辑运算的进步,为未来内存计算开辟了新的技术路径。

  

突破冯·诺依曼构架瓶颈 中国研制出最小尺寸相变存储单元-第1张图片-大千世界


  采用GNR边缘接触制备出目前世界上最小尺寸的相变存储单元器件(a)相变存储单元结构示意图;(b)功耗与接触面积的关系。

  

突破冯·诺依曼构架瓶颈 中国研制出最小尺寸相变存储单元-第2张图片-大千世界


  器件循环寿命的偏压极性依赖性。(a)测量设置示意图;(b)~3 nm 宽 GNR 边界电极相变存储单元在不同电压极性下的循环寿命。


标签: 内存 PCRAM 相变随机存取存储器

抱歉,评论功能暂时关闭!