当前，7nm以及更先进芯片制造有赖于ASML的EUV光刻机才能实现，最新款单价高达1.5亿美元，包含10万个部件和长达2公里的布线。
这么一台设备除了价格昂贵、零件繁多、造型庞大等，耗电能力同样不容小觑。
据媒体披露，当前ASML最新一代EUV光刻机的额定功耗是100万瓦，约是前几代设备的10倍。仅台积电就拥有超过80台EUV光刻机，粗算之下，开机一天的耗电量高达上百万度。
类似地，三星在韩国的6个半导体制造基地去年的总能耗占到集团的3%，未来更多EUV光刻机进厂部署后，这个数字还可能继续提高。
对于芯片制造行业的高耗能问题，业内认为，切换能源类型势在必行，也就是让可再生能源发电的比例提高。
文章来源：
快科技
版权声明：本文内容由互联网用户自发贡献，该文观点仅代表作者本人。本站仅提供信息存储空间服务，不拥有所有权，不承担相关法律责任。如发现本站有涉嫌抄袭侵权/违法违规的内容， 请发送邮件至23467321@qq.com举报，一经查实，本站将立刻删除;如已特别标注为本站原创文章的，转载时请以链接形式注明文章出处，谢谢！
